EXF鍍層測(cè)厚儀主要用于金屬材料表面涂鍍層厚度的測(cè)量，一般常采用無損檢測(cè)方法。但是，由于測(cè)量對(duì)象、測(cè)量方法、測(cè)量環(huán)境、儀器設(shè)備等因素引進(jìn)了諸多測(cè)量誤差，為確保測(cè)量結(jié)果的準(zhǔn)確可靠，有必要對(duì)其進(jìn)行不確定度分析。
EXF鍍層測(cè)厚儀原子的特性由原子序來決定，亦即質(zhì)子的數(shù)目或軌道中電子的數(shù)目，即如圖所示特定的X-射線能量與原子序間的關(guān)系。K輻射較L輻射能量高很多，而不同的原子序也會(huì)造成不同的能量差。
覆層厚度的測(cè)量方法主要有：楔切法，光截法，電解法，厚度差測(cè)量法，稱重法，X射線熒光法，β射線反向散射法，電容法、磁性測(cè)量法及渦流測(cè)量法等。這些方法中前五種是有損檢測(cè)，測(cè)量手段繁瑣，速度慢，多適用于抽樣檢驗(yàn)。
EXF鍍層測(cè)厚儀采用X熒光分析技術(shù)，可以測(cè)定各種金屬鍍層的厚度，包括單層、雙層、多層及合金鍍層等，可以進(jìn)行電鍍液的成分濃度測(cè)定。
EXF鍍層測(cè)厚儀是能譜分析方法，屬于物理分析方法。樣品在受到X射線照射時(shí)，其中所含鍍層或基底材料元素的原子受到激發(fā)后會(huì)發(fā)射出各自的特征X射線，不同的元素有不同的特征X射線；探測(cè)器探測(cè)到這些特征X射線后，將其光信號(hào)轉(zhuǎn)變?yōu)槟M電信號(hào)；經(jīng)過模擬數(shù)字變換器將模擬電信號(hào)轉(zhuǎn)換為數(shù)字信號(hào)并送入計(jì)算機(jī)進(jìn)行處理；計(jì)算機(jī)*的特殊應(yīng)用軟件根據(jù)獲取的譜峰信息，通過數(shù)據(jù)處理測(cè)定出被測(cè)鍍層樣品中所含元素的種類及各元素的鍍層厚度。
EXF鍍層測(cè)厚儀能檢測(cè)出常見金屬鍍層厚度，無需樣品預(yù)處理；分析時(shí)間短，僅為數(shù)十秒，即可分析出各金屬鍍層的厚度；分析測(cè)量動(dòng)態(tài)范圍寬，可從0.005μm到60μm。
